Fabricante de ODM Bebidas alcohólicas Venta caliente Pureza 99% CAS 118-93-4 2′-Hidroxiacetofenona en stock

P-hidroxiacetofenona

Breve descripción:

cosmate^®PHA, P-hidroxiacetofenona es un extracto de planta natural, que existe en los tallos y hojas de Artemisia scoparia de Compositae, las raíces de Artemisia capillaris, plantas de Arubaceae, ginseng waierteng y otras plantas.

Nombre comercial:Cosmate®PHA

Nombre del producto:P-hidroxiacetofenona

Nombre INCI:P-hidroxiacetofenona

Fórmula molecular:C8H8O2

Número CAS:99-93-4

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Por qué la fuente Zhonghe

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Nuestro negocio pone énfasis en la administración, la incorporación de personal talentoso, además de la construcción de edificios para empleados, esforzándonos mucho por aumentar el estándar y la conciencia de responsabilidad de los miembros del personal. Nuestra corporación obtuvo con éxito la certificación IS9001 y la certificación europea CE de4-hidroxiacetofenona, China Hidroxiacetofenona, P-hidroxiacetofenona, Hasta ahora, nuestro artículo asociado con la impresora dtg a4 se puede mostrar en la mayoría de los países extranjeros, así como en los centros urbanos, que son buscados simplemente por el tráfico dirigido. Todos creemos firmemente que ahora tenemos la capacidad total para presentarle productos satisfechos. Deseo recopilar solicitudes de sus cosas y producir una asociación de cooperación a largo plazo. Prometemos muy seriamente: Misma calidad superior, mejor precio; Exactamente el mismo precio de venta, mayor calidad.
cosmate^®PHA,P-hidroxiacetofenonaes un extracto de planta natural, que existe en los tallos y hojas de Artemisia scoparia de Compositae, las raíces de Artemisia capillaris, plantas Arubaceae, ginseng waierteng y otras plantas.

cosmate^®PHA, P-hidroxiacetofenona, hidroxiacetofenona, 4-acetilfenol,4-hidroxiacetofenona,2,3,6-trimetilfenol,1-(4-hidroxifenil1)etanona, es un extracto de planta natural que existe en los tallos y hojas de Artemisia scoparia de Compositae, las raíces de Artemisia capillaris, plantas de Arubaceae, ginseng waierteng y otras plantas. La P-hidroxiacetofenona es combustible y fácil de disolver en agua caliente cuando está a temperatura ambiente.

La p-hidroxiacetofenona es una nueva materia prima cosmética que promueve la anticorrosión y la sinergia, es eficaz para los hongos y debe combinarse con conservantes tradicionales. Los conservantes de mala calidad son perjudiciales para la piel humana e incluso pueden causar reacciones alérgicas cuando los usamos. frecuentemente. Por lo tanto, los conservantes que utilizamos en nuestros productos para el cuidado de la piel y cosméticos deben ser de naturaleza suave y de composición estable.

La P-hidroxiacetona es el estabilizador activo auxiliar de alta temperatura más seguro. Hay muchos productos para el cuidado de la piel y cosméticos que dicen que no contienen conservantes en sus productos; de hecho, solo usan P-hidroxiacetofenona en lugar de conservantes, porque la P-hidroxiacetofenona Es una materia prima cosmética multifuncional.

P-hidroxiacetofenona, la hidroxiacetofenona es un ingrediente antioxidante y acondicionador de la piel. El compuesto antioxidante específico se conoce en realidad como p-hidroxiacetofenona, un antioxidante fenólico capaz de neutralizar varios tipos diferentes de radicales libres. Su beneficio secundario es potenciar el sistema de conservación en cosmética. Esto es ventajoso porque permite a los químicos cosméticos utilizar una menor cantidad de conservantes (como el fenoxietanol) sin perder eficacia pero con el beneficio de reducir el riesgo de una reacción alérgica. La hidroxiacetofenona también tiene capacidad calmante porque puede inhibir una enzima en la superficie de la piel que puede provocar signos de irritación.

La P-hidroxiacetofenona tiene un efecto sinérgico con otros conservantes y tiene amplias perspectivas de aplicación, normalmente se utiliza como antiinflamatorio, conservante antioxidante, etc.

Parámetros técnicos:

Apariencia	Polvo cristalino blanco
Ensayo	99% mín.
Punto de fusión	109℃~113℃
Pérdida por secado	0,5% máx.
Ceniza Sulfatada	0,2% máx.
Metales pesados	10 ppm máx.
Sustancias relacionadas	0,1% máx.